Logic gates; MOSFET; Gold; Leakage currents; Ions; Performance evaluation; Hafnium compounds;
机译:用于$ V_ {rm th} $可控的四端驱动双栅极MOSFET(4T-XMOSFET)的最佳栅极功函数-带隙功函数与中隙功函数的对比
机译:双材料双层栅极堆叠SON MOSFET:增强模拟性能的新型架构-第一部分:栅极金属功函数工程的影响
机译:新型器件架构的设计注意事项:栅极长度小于100 nm的异质双栅极(HEM-DG)MOSFET
机译:具有双栅极MOSFET的嵌入式栅极氧化物栅极功函数的新器件架构
机译:快速热CVD高k栅极电介质和CVD金属栅电极的技术开发和研究,用于未来的ULSI MOSFET器件集成:氧化锆和氧化ha。
机译:首要原理的砷和锑双栅极MOSFET的性能
机译:基于严格仿真的栅极工程双栅极(DG)MOSFET中栅极失准效应的研究
机译:多晶硅栅极对具有薄栅氧化层的亚100nm mOsFET中随机掺杂诱导阈值电压波动的影响