首页> 外文会议>Electron Devices Meeting, 1997. IEDM '97. Technical Digest., International >A vertical cavity longwave infrared SiGe/Si photodetector using aburied silicide mirror
【24h】

A vertical cavity longwave infrared SiGe/Si photodetector using aburied silicide mirror

机译:垂直腔长波红外SiGe / Si光电探测器埋硅镜

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摘要

We describe the fabrication, modelling and performance of aresonant cavity detector using epitaxial p-type SiGe/Si quantum wellsgrown over a high reflectance tungsten silicide layer. The deviceoperates in the 8-12 μm band in normal incidence and has a black bodyresponsivity comparable to current n-GaAs/AlGaAs detectors at ~1 V,making it suitable for integration in a monolithic Si-based focal planearray. Ways to improve the design are discussed
机译:我们描述了制造,建模和性能 外延p型SiGe / Si量子阱的谐振腔检测器 在高反射率的硅化钨层上生长。装置 在垂直入射下在8-12μm波段内工作且黑体 在约1 V时的响应度可与目前的n-GaAs / AlGaAs检测器相比, 使它适合集成在单片硅基焦平面中 大批。讨论了改进设计的方法

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