Plasma etching; cumulative population; etching mechanism; evaluated probability;
机译:丝素蛋白的等离子蚀刻:实验和模型
机译:等离子体蚀刻过程的动力学研究。 I.在CnFm / H2和CnFm / O2等离子体中蚀刻Si和SiO2的模型
机译:通过等离子体表面模拟和实验研究在硅上的Cl-2 / O-2 / Ar电感耦合等离子体的蚀刻和沉积过程
机译:基于实验结果的等离子体蚀刻建模方法
机译:复杂氧化物薄膜的基于卤素的等离子体刻蚀动力学模型及其在预测特征轮廓模拟中的应用。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:高密度氯基等离子体中多晶硅栅刻蚀的原子尺度细胞模型和轮廓模拟:钝化层形成对特征轮廓演变的影响
机译:基于ICl和IBr的化学中的电感耦合等离子体蚀刻:第二部分。 Inp,Insb,InGap和InGaas;等离子体化学和等离子体处理