Seed層を用いたBMO添加REBCO膜におけるBMOナノロッド成長のシミュレーション

摘要

BaMO_3(BMO, M=Zr, Sn, Hfなど)を添加したREBa_2Cu_3O_y(REBCO, RE=Y, Sm, Gdなど)膜をパルスレーザー蒸着(PLD)法などの気相法で作製すると、BMO が自己組織化し磁束ピン止め点となる。REBCO膜の磁場中特性は自己組織化BMOの形状や数密度に大きく影響される。