机译:使用高k覆盖层抑制氧化硅-氮化物-氧化硅-硅型存储单元中的寄生电子注入
机译:循环热电子注入编程/热孔擦除氧化硅-氮化物-氧化硅存储器中的亚阈值斜率和跨导退化模型
机译:氧化硅-氮化物-氧化硅(SONOS)存储器中热电子注入程序/热空穴擦除循环行为的通道宽度依赖性
机译:质子在氮化硅中的极化和电子注入
机译:极化诱导的III族氮化物中的隧道结,用于光电应用。
机译:大量非法注入硅酮总是会导致慢性和确定性硅酮血液扩散并伴有皮肤病学并发症
机译:由来自半导体表面(i)的激发电子引起的解吸 - 通过电子/空穴注入诱导的吸收到卤素吸附的硅表面 -
机译:开发一种经过统计验证的反应键合氮化硅注射成型方法,烧结反应键合氮化硅和烧结氮化硅。最终报告,1985年7月1日至1986年6月30日