低酸素分圧雰囲気中におけるSi_3N_4/SiC複合材のき裂治癒挙動

机译：低氧分压大气中Si_3N_4 / SIC复合材料的开裂行为行为

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これが実証されているのは，大気中においてのみである．き裂の自己治癒には酸素が必要だが，もし燃焼ガス中等の希薄酸素環境下においてもき裂を自己治癒出来れば，エネルギー関連機器にも応用可能であると考えられる．そこで，本研究では自己き裂治癒能力が優れたSi_3N_4/SiC複合材のき裂治癒挙動に及ぼす酸素分圧の影響を系統的に検討した．

机译：这仅在大气中展示。裂缝的自我愈合需要氧气，但是如果可以在燃烧气体中稀释氧环境中的裂缝进行自愈，则认为适用于能量相关装置。因此，在本研究中，系统地检查了具有优异的自裂解能力的Si_3N_4 / SiC复合物的氧分压对裂纹愈合行为的影响。

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来源
《日本材料学会学術講演会》|2008年||共2页
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作者
鄭永順; 中尾航; 高橋宏治; 安藤柱; 斉藤慎二;
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中图分类 TB3-53;
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