Advances in MOEMS Technologies for high quality imaging systems

机译：用于高质量成像系统的MOEMS技术的进步

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An overview of advances in MOEMS devices and technologies for high quality imaging systems is provided. A particular focus is laid on recent technological further developments possibly opening gateways to unprecedented device and system functionality by e. g.: increase of pixel count towards higher parallel operation, decrease of the mirror pitch in large arrays towards applications like high-performance holography, novel technologies for higher operation bandwidth, increase of aperture size for scanning applications like LIDAR, integration of high reflection coatings for processing of multi Watt laser radiation for marking and engraving, and phased arrays for high speed laser beam steering.

机译：本文概述了用于高质量成像系统的MOEMS设备和技术的最新进展。特别关注的是最近的技术进一步发展，可能通过e打开通向史无前例的设备和系统功能的网关。 g .：针对更高的并行操作，增加像素数，针对高性能全息术等应用，大阵列中镜面间距的减小，用于更高操作带宽的新颖技术，用于激光应用（如LIDAR）的孔径尺寸的增加，高反射涂层的集成用于标记和雕刻的多瓦激光辐射，以及用于高速激光束控制的相控阵。

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来源
《SPIE Advanced Lithography Conference》|2018年|1058703.1-1058703.10|共10页
会议地点
作者
Harald Schenk; Michael Wagner; Jan Grahmann; Andre Merten;
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作者单位

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种
中图分类
关键词
MEMS; MOEMS; scanner; micro mirror; micro scanner; spatial light modulator; micro mirror array; marking; engraving; lithography; LIDAR;

机译：MEMS; MOEMS;扫描器;微镜微型扫描仪空间光调制器;微镜阵列标记雕刻;光刻激光雷达;

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