photoresist; chemical amplification; finite difference method; line edge roughness; photochemistry;
机译:剩余电阻率多级土电离的有限差分时域建模 - 第Ⅰ部分:理论背景和提出的FDTD制剂
机译:具有严格掩模计算和简化抗蚀剂模型的EUV抗蚀剂模拟
机译:建立在EUV的化学放大抗蚀剂中成像的体电阻模型
机译:使用FDM配方对欧盟抵抗铅液的理论建模
机译:使用完全耦合有限元制剂的非饱和土理论和数值模拟
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:Sematech Berkeley会议:在6.x-nm下,在化学扩增的EUV抗蚀剂和EUV抗蚀剂的敏感性中展示了15nm的半场
机译:任意形状二维结构的电阻率建模第一部分理论公式