LiMn_2O_4 thin films; RF magnetron sputtering; ac conductivity; dielectric constant; electrical modulus;
机译:射频磁控溅射制备多铁性BiFeO3薄膜的铁电性能和介电响应
机译:射频磁控溅射制备ZrO2和YSZ高k栅介电薄膜的物理和电学性质
机译:介电性能和交流电纯和碘掺杂的聚乙烯醇薄膜水溶液的电导率
机译:A.C.RF磁控溅射生长的LiMn_2O_4阴极膜的电导率,电介质和电模量研究
机译:利用射频磁控溅射外延钛酸钡薄膜制造光电子器件的研究。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:反应射频磁控溅射沉积锶钽基钙钛矿型氮氧化物薄膜的铁电和介电研究