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解像力1.2μmG6露光装置の開発

机译:开发1.2μMG6曝光设备

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摘要

我々はこれまでに、FPD用のリソグラフィとしてDeep UV (DUV)露光光源を用いることで、高解像 力と高生産性を両立する露光方法を提案してきた。本論文では、DUV露光光源を採用したプレートサイズG6用 露光装置の開発コンセプトを紹介し、テスト露光機によるテスト露光結果を示す。
机译:到目前为止,我们提出了一种通过使用深紫外(DUV)曝光光源作为FPD光刻来结合高分辨率和高生产率的曝光方法。在本文中,我们介绍了采用DUV曝光光源的板尺寸G6的曝光设备的开发概念,并通过测试曝光机显示测试曝光结果。

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