【24h】

解像力1.2μmG6露光装置の開発

机译:分辨率为1.2μm的G6曝光系统的开发

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摘要

我々はこれまでに、FPD用のリソグラフィとしてDeep UV (DUV)露光光源を用いることで、高解像 力と高生産性を両立する露光方法を提案してきた。本論文では、DUV露光光源を採用したプレートサイズG6用 露光装置の開発コンセプトを紹介し、テスト露光機によるテスト露光結果を示す。
机译:我们已经提出了一种曝光方法,该方法通过将深紫外线(DUV)曝光光源用于FPD光刻来实现高分辨率和高生产率。在本文中,我们介绍了使用DUV曝光光源的G6版印版曝光系统的开发概念,并显示了测试曝光机的测试曝光结果。

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