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机译:分辨率为1.2μm的G6曝光系统的开发
長野 浩平; 藪 伸彦; 八講 学; 安藤 美和子; 和泉 望; 大寄 美紀;
キャノン株式会社〒321-3292栃木県宇都宮市清原工業団地20-2;
リソグラフィ; 露光; 1.2μm; DUV;
机译:开发分辨率1.2 /μmg6曝光设备
机译:EUVA曝光设备的开发现状EUVA通过最初开发的设备提高加工精度开发具有6投影光学系统的设备
机译:支持更大电路板尺寸的LCD曝光设备:说明最大可支持1100 x 1250 mm的曝光设备“ MPA·7500、7500CF”的开发背景,功能,未来发展等。
机译:开发1.2μMG6曝光设备
机译:面向听力障碍者的信息安全设备的开发及其人机界面的基础研究。
机译:(未来医学百科全书)开发可实现生物芯片快速原型设计的无掩模曝光设备
机译:飞机异常检测系统,连接多个单元的电池异常检测方法,降落伞或滑翔伞展开器以及安全气囊装置
机译:半导体发光器件的制造方法和半导体发光器件
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