Annealing; Semiconductor lasers; Three-dimensional displays; Silicon; Junctions; Measurement by laser beam;
机译:三维顺序集成设备和电路中的层间静电耦合效果
机译:低温掺杂剂活化,采用纳秒超紫光激光退火用于整体三维集成
机译:通过准分子激光退火制备具有高电活化的超浅结
机译:NS激光退火用于结束三维顺序集成中的层间互连稳定性
机译:低电阻触点与用于纳米级MOS器件的激光退火结。
机译:Co20Fe60B20 MgO Co20Fe60B20垂直磁隧道结的退火稳定性研究
机译:三维顺序集成设备和电路中的层间静电耦合效果
机译:用于太阳能电池结形成的离子注入Cz硅的激光退火