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【24h】

薄膜シリコンの破断における切り欠き形状がき裂進展に与える影響

机译:缺口形状对薄膜硅断裂中裂纹扩展的影响

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摘要

MEMSの主材料として用いられるシリコンは,非常に高い純度で精製可能であり,比較的広い弾性変形領域を有するため,半導体材料としてだけでなく,構造材料としても優れている.「トリリオンセンサ」などが盛hになっている今日,MEMSの小型化は必須であり,それに伴うMEMSを構成する微細構造体のスケールダゥンが課題となる.そこで,これまでのマイクロスケールでの機械物性評価から,ナノメートルオーダーにおけるシリコンの材料特性を把握することが,今後のマイクロ•ナノマシンの設計において必要となる.
机译:用作MEMS主要材料的硅通过非常高的纯度高度纯化,并且由于它具有相对宽的弹性变形区域,不仅是半导体材料,而且是作为结构材料的。今天,小型化的“Trion传感器”等。 MEMS是必不可少的,占据MEMS的微观结构的规模DUS。因此,从MicrossoStoM的机械物理性质评估到到目前为止,纳米了解芯片的材料特性以米顺序,这是未来所必需的微型•纳米机设计。

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