Extreme Ultraviolet Lithography; EUV; OPC Model; Flare; EUV Mask; 3D Mask Effects; MPC;
机译:用于晶片夹具组合的红外参数的EUV晶片加热校正中依赖于堆栈的校准的计算模型
机译:TOPCAT-NP:用于模拟来自农业系统的流量和养分运输的最低信息需求模型
机译:使用动态模型校准来改善周转时间(TAT)的新型光学邻近校正(OPC)流程
机译:用于EUV光刻的OPC建模和校正解决方案
机译:多光谱传感器驱动的太阳能EUV辐照度模型,具有改进的时光谱分辨率,适用于地球和火星的空间天气应用。
机译:OPC和OPC3水模型的熔点
机译:校正“OPC3,OPC,Tip3P-FB和Tip4P-FB水模型的单价离子参数化”
机译:根据性能要求规定EUV反射镜的图形和光洁度。第11/94号修订版