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【24h】

Improved modeling of isolated EDMOS in advanced CMOS technologies

机译:先进CMOS技术中改进的隔离EDMOS建模

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摘要

Based on systematic measurements in CMOS 40nm bulk technology, we propose a new model for isolated Extended-Drain MOS (EDMOS) transistor. Our custom Spice macro-model includes main specific effects in high-voltage devices. In particular, the model accounts for the various parasitic bipolar components (PBCs) that are fully characterized. This model can cover various architectures, from bulk-Si to FDSOI.
机译:基于CMOS 40nm体技术中的系统测量,我们为隔离式扩展漏极MOS(EDMOS)晶体管提出了一种新模型。我们的自定义Spice宏模型包括高压设备中的主要特定效果。特别是,该模型考虑了充分表征的各种寄生双极组件(PBC)。该模型可以涵盖从体硅到FDSOI的各种体系结构。

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