机译:使用低k电容(k = 3.1)的低成本,高性能Cu布线(k_(eff)= 2.75)技术
机译:使用低k电容(k = 3.1)的低成本,高性能Cu布线(k {sub}(eff)= 2.75)技术
机译:低成本,高性能Cu接线使用低k帽(k = 3.1)(k {sub}(eff)= 2.75)
机译:具有成本效益和高性能的Cu互连(K
机译:用于进一步缩小超大型集成器件-Cu互连的等离子增强化学气相沉积SiCH膜的低k覆盖层的材料设计
机译:Cu /多孔超低k互连技术中的介质/金属扩散屏障