phase-shift photomask; rigorous electro-magnetic field (EMF) simulation; waveguide; line-edge roughness (LER); line-width roughness (LWR); cd variation; aerial image contrast; process window;
机译:纳米级CMOS技术中线边缘粗糙度(LER)和线宽粗糙度(LWR)的研究:第二部分-实验结果及其对器件可变性的影响
机译:纳米CMOS技术中线边缘粗糙度(LER)和线宽粗糙度(LWR)的研究:第一部分–建模和仿真方法
机译:线边缘和线宽粗糙度的统计模型,用于设备变异性分析
机译:严格的EMF模拟吸收体形状变化及其对光刻工艺的影响
机译:短期Algol型二元体系直接冲击累积过程的数值模拟。
机译:用WRF-NMM模型模拟物理过程的参数化对热带气旋纳尔吉斯(2008)径迹和强度模拟的影响
机译:隔离和周期性3D光掩模图案的EmF模拟