低ガス圧プロセスでのCo基グラニュラー磁性膜作製のためのCo基金属＋CoSi＋CoO焼結ターゲットの提案

机译：基于CO-+ COSI + COO烧结靶的提议，用于在低气体压力过程中制备CO基颗粒磁性膜的靶

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垂直磁気記録媒体用のグラニュラー磁性層は，Coを含む金属粉と絶縁性の高い酸化物との焼結ターゲットを小8Pa程度の高ガス圧雰囲気下でdcスパッタすることにより成膜されているが，デバイスの耐食性や耐衝撃性の観点から作製プロセスの低圧下が望まれている．

机译：通过DC溅射在具有含有CO 4的金属粉末的高气体压力气氛下通过DC溅射和具有高绝缘性能的氧化物的高气体压力溅射形成颗粒状磁性层。从耐腐蚀性和抗冲击性的观点来看该装置，需要制造过程的低压。

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来源
《日本磁気学会学術講演会》|2010年||共1页
会议地点
作者
佐々木晋五; 斉藤伸; 高橋研;
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原文格式 PDF
正文语种
中图分类 TM27-532;
关键词
入库时间 2022-08-20 21:46:14

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