molecular resist; thermal cross-linking; non-chemically amplified resists; acid catalyzed depolymerization; solvent development; nitrobenzyl protecting group;
机译:新型非化学放大的分子抗蚀剂设计,具有用于多光刻应用和纳米透明仪的可切换敏感性
机译:碱性可显影正性抗蚀剂的新概念:利用酸催化从草酰苯并降冰片二烯转变为萘酚的分子抗蚀剂
机译:具有双调特性的超灵敏非化学放大低对比度负电子束光刻胶
机译:使用分子抗蚀剂的非传统抗蚀剂设计:正音交联和非化学扩增的分子抗蚀剂
机译:用于高级光刻的分子抗蚀剂-设计,合成,表征和模拟。
机译:HfO2 / TiOx双层电阻随机存取存储器中的低功率电阻切换特性
机译:用于EUV光刻的负色度化学放大分子抗蚀剂平台的11nm半间距分辨率