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Evolution of Illumination Systems in Microlithography A Retrospective

机译:微光刻中照明系统的发展回顾

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摘要

Illumination systems in microlithography have evolved from simple light mixing devices towards ultra-flexible contrast enhancement tools, enabling today's most advanced lithographic processes. A survey of the changing illumination requirements, design concepts and functionality is given.
机译:微光刻技术中的照明系统已经从简单的光混合设备发展到超柔韧性的对比度增强工具,从而实现了当今最先进的光刻工艺。给出了对不断变化的照明要求,设计概念和功能的调查。

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