metalorganic vapour phase epitaxy; InGaN; pulsed laser deposition; ZnO; Si substrate; lift-off;
机译:使用化学剥离和室温直接晶片键合以及GaN晶片规模在ZnO缓冲蓝宝石上进行GaN晶片规模的MOVPE生长,从蓝宝石转移到玻璃基板的MOVPE GaN薄膜的结构和成分表征
机译:通过在3C-SiC / Si(111)衬底上通过脉冲偏置增强形核和外延晶粒选择合成的高取向金刚石(111)膜
机译:使用HVPE生长的GaN体靶,通过激光分子束外延在蓝宝石(0001)上高度c轴取向生长GaN膜
机译:在Zno缓冲Si(111)基板上的高度C轴导向Ingan / GaN膜的外延MOVPE生长
机译:使用常规和五极外延生长工艺在氢(6)-碳化硅(0001)和硅(111)衬底上生长氮化镓和氮化铝镓薄膜。
机译:在高度c轴取向的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3薄膜中具有超低应变滞后的大压电应变并且在非晶玻璃基板上呈柱状生长
机译:使用HVpE生长的GaN体靶通过激光分子束外延在钴蓝(0001)上高度c轴取向生长GaN膜