【24h】

Ultimately scaled 20nm unified-RAM

机译:最终可扩展的20nm统一RAM

获取原文

摘要

A 20 nm all-around-gate (AAG) FET is demonstrated for unified-RAM by the use of an 8 nm Si-nanowire on a bulk-substrate. High performances of NVM and 1T-DRAM are presented.
机译:通过在散装 - 衬底上使用8nm Si-纳米线来对统一RAM进行20nm全栅极(AAG)FET。提出了NVM和1T-DRAM的高性能。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号