EUV mask; carbon contamination; shadowing effect; CD compensation;
机译:相干散射显微镜和原位污染系统对极限紫外掩模碳临界尺寸性能的影响
机译:相干散射显微镜/原位加速污染系统对碳污染的分析及其对极端紫外光罩成像性能的影响
机译:碳污染对极限紫外光罩印刷性能的影响
机译:极端紫外线(EUV)掩模的碳污染及其对成像的影响
机译:辐射引起的碳污染对极紫外掩模的印刷性能的影响。
机译:使用极端紫外(EUV)辐射和EUV诱导的氮等离子体的聚醚醚酮(PEEK)的物理化学表面改性
机译:氧等离子体对极紫外(EUV)掩模坯料Ru覆盖层化学组成和形貌的影响