Electromigration; Cu interconnects; Voids; Reliability; Lognonnal; Redundancy;
机译:Cu / Low-kappa $互连中基于空隙成核和生长的应力诱发空泡的寿命分布分析
机译:在全球Cu和Zn存款尺寸数据中拟合静脉幂正常频率分布的新方法
机译:Al / Cu薄膜互连的电迁移引起的失效统计分布的比较研究
机译:铜互连中的EM故障的最小空隙尺寸和三参数对数正态分布
机译:实验室破碎波下的空隙率和气泡尺寸分布测量。
机译:使用指数分布和对数正态分布模拟的马来西亚半岛士姑来的雨滴大小分布
机译:EL / Cu薄膜互连电迁移诱导故障统计分布的比较研究