scatterometry; resist thinning; immersion lithography;
机译:实时散射测量,可在光刻胶修整过程中控制轮廓
机译:基于多波长散射和人工神经网络的光刻胶光栅轮廓测量
机译:通过光谱散射和原子力显微镜确定的高纵横比光栅的轮廓
机译:使用散布法表征和蚀刻线轮廓
机译:非均匀性对多晶硅硅薄膜(多晶硅,晶界,分布函数,掺杂曲线,TEM)中电阻率建模的影响。
机译:聚合物注塑模具中耐热TiCu(NO)薄膜的制备表征和实现
机译:浸没散射法可改善特征分辨率并高速采集抗蚀剂轮廓