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Plasma Etching Process Induced Closed-loop Metal Pattern Damage

机译：等离子体蚀刻工艺引起的闭环金属图案损伤

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《Next Generation Internet Networks, 2005 》|2005年|p.219-222|共4页
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作者
Po-Tao Chu; Ming-Chich Yeh; Chih-Chicn Hung; Ting-Huang Lin; Ying-Chen Chao;
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正文语种
中图分类自动化技术、计算机技术 ;
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