indium compounds; gallium arsenide; III-V semiconductors; heterojunction bipolar transistors; curing; passivation; electron traps; stability; ultraviolet radiation effects; annealing; surface stability; UV-cured HBT; polyimide; passivation; device self-heating; thermal annealing effect; trap density; spatial electron trap; InP-InGaAs;
机译:聚酰亚胺钝化工艺对InAlAs / InGaAs和AlGaAs / GaAs HBT的应力电流行为
机译:砂光和UV固化涂层的涂覆对定向刨花板的表面粗糙度,尺寸稳定性和耐火性的影响
机译:砂光和UV固化涂层的涂覆对定向刨花板的表面粗糙度,尺寸稳定性和耐火性的影响
机译:用聚酰亚胺钝化UV固化的Inp-Ingaas HBT的表面稳定性
机译:半导体材料上表面钝化层的结构和稳定性
机译:基于结构力学性能和表面形态的蓝羊蹄被动接触稳定性
机译:高压IGBT的聚酰亚胺表面钝化过程研究
机译:调整azolium azolate离子液体以促进钛纳米粒子的表面相互作用,从而增加钝化和胶体稳定性。