electron-beam lithography; critical dimension reduction; chemically amplified resists; sub-100 nm; monte-carlo simulations;
机译:富勒烯辅助电子束光刻技术,用于InP薄膜波导器件中的图形改进和损耗减少
机译:预测先进的电子束投影光刻掩模的临界尺寸均匀性
机译:双切割辅助高维减免数据的尺寸减少
机译:电子束辅助临界尺寸减少
机译:通过化学和热还原方法还原氧化的二维石墨烯基材料。
机译:激光束或电子束熔化产生的三维钛支架中人成骨细胞的供氧和生存能力的比较分析
机译:富勒烯辅助电子束光刻技术,用于InP薄膜波导器件中的图形改进和损耗减少