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【24h】

Reducing arsenic to germanium cross contamination with isotopically enriched SDS /sup 72/GeF/sub 4/

机译：使用同位素富集的SDS / sup 72 / GeF / sub 4 /减少砷对锗的交叉污染

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《Ion Implantation Technology, 2000. Conference on》|2000年|P.707-710|共4页
会议地点
作者
Rendon; M.J.; Locke; J.;
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正文语种
中图分类无线电电子学、电信技术;
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