机译:肖特基势垒高度取决于Au / Si / n-GaAs接触层的硅中间层厚度:界面形成化学研究
机译:Ag / GaAs(001)-2 x 4界面肖特基势垒高度形成的原子性质:原位同步加速器辐射光发射研究
机译:(001)3C SiC / Ni接触界面:原位XPS观察退火引起的Ni2Si形成以及所产生的势垒高度变化
机译:通过原位电化学工艺形成的N-INP肖特基触点界面微观结构与屏障高度的强关系
机译:介电偶极子减轻了肖特基势垒高度调整,从而降低了接触电阻。
机译:具有改善的势垒高度均匀性的单层石墨烯/ SiC肖特基势垒二极管作为检测重金属的传感平台
机译:通过原位电化学过程形成的Pt / n-InP肖特基接触中的界面微观结构与势垒高度之间的强相关性
机译:利用导纳技术测量Gaas肖特基势垒的界面态:与势垒高度不稳定性的关系