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机译:在二进制和衰减相移掩模上进行激光修复的DUV可印刷性
James A. Reynolds; Reynolds Consulting; Sunnyvale; CA; USA; Franklin M. Schellenberg; Hewlett-Packard Labs.; Austin; TX; USA; Michael S. Hibbs; IBM Corp.; Essex Junction; VT; USA; Dennis Hayden; IBM Corp.; Essex Junction; VT; USA.;
机译:高级光学光刻中减毒相移掩模的三维掩模效应研究
机译:衰减相移掩模中的亚分辨率辅助功能,用于极紫外光刻
机译:衰减相移掩模,用于缓解极端紫外光刻中接触孔图案中的光子散粒噪声效应
机译:DUV在二进制和衰减相移掩模上的激光修复的可印刷性
机译:具有反并行同步方法的二进制相移键控解调器。
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机译:使用ps UV固态激光器的高精度激光掩模修复技术
机译:利用腔衰减相移(Caps)方法开发极高反射率的激光反射镜。
机译:用于模拟二进制,衰减相移和交替相移掩模的无掩模光刻的系统,装置和方法
机译:由于改善了成像,所以相移掩模结构和使具有吸收/衰减的移位器具有吸收/衰减特性侧壁的方式
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