首页> 外文会议>Gallium Arsenide Integrated Circuit (GaAs IC) Symposium, 1996. Technical Digest 1996., 18th Annual >Low current wideband amplifier using 0.2 /spl mu/m gate MODFET fabricated by using phase-shift lithography
【24h】

Low current wideband amplifier using 0.2 /spl mu/m gate MODFET fabricated by using phase-shift lithography

机译:使用相移光刻技术制造的使用0.2 / spl mu / m栅极MODFET的低电流宽带放大器

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摘要

We have developed wideband amplifier that can keep over 10 dB gain at the drain voltage/current of 2 V/10 mA in the frequency range from 100 MHz to 3 GHz. The fabricated IC achieved low noise figure and high IP3 (output) of 1.4 dB and 30 dBm at 800 MHz, respectively. The present IC employs 0.2 /spl mu/m gate delta-doped MODFET structure fabricated by using phase-shift lithography.
机译:我们开发了宽带放大器,该放大器在100 MHz至3 GHz的频率范围内,在2 V / 10 mA的漏极电压/电流下可以保持超过10 dB的增益。所制造的IC在800 MHz时分别达到1.4 dB和30 dBm的低噪声系数和高IP3(输出)。本IC采用通过使用相移光刻法制造的0.2μg/splμm/ m的栅极δ-掺杂的MODFET结构。

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