机译:通过电子束蒸发沉积的等离子体蚀刻应用的氧化铬(Cr2O3)薄膜结构,光学和表面性能的影响
机译:TiO_2(110)上链烷硫醇盐金纳米簇膜的沉积,制备及等离子刻蚀的影响
机译:非晶氢化碳膜用作在SF6等离子体中进行反应离子刻蚀的硅微尖端制造的掩模
机译:铬膜在制造光掩模中的等离子体蚀刻
机译:利用激光诱导的等离子体对光刻光掩模上的纳米膜进行材料改变和无损伤纳米颗粒去除。
机译:二氧化硅基牺牲模板的选择性刻蚀制备中孔烧结金属薄膜
机译:通过电感耦合等离子体刻蚀和快速湿法刻蚀制备高品质因子GaAs / InAsSb光子晶体微腔