SLM lithography; low k; optized illumination; pupil filter; real-time OPC; masks; pattern generator;
机译:使用UV纳米压印光刻的解决方案 - 可处理的多色印刷
机译:中性粒子接近光刻:无电荷的伪像的非接触式纳米印刷
机译:轻压平版印刷:无墨的微接触印刷
机译:SLM光刻:在没有先前的OPC处理的情况下,打印到K1 = 0.30
机译:通过改进的粘合剂喷射印刷工艺和通过软光刻在纳米球图案中进行螺距控制的中小型高温高温反应器
机译:黄金上的CoPc和CoPcF16:特定于站点的电荷转移过程
机译:工艺窗口OPC验证:65 nm节点的干法与浸没式光刻