random contact hole; imaging solutions; optical lithography; EUV;
机译:使用电阻回流工艺的32 nm节点随机接触孔阵列的临界尺寸控制
机译:适用于45-90nm节点设计规则的抗接触孔解决方案
机译:为未来的DRAM技术节点集成了替代性接触清洗技术
机译:未来技术节点的随机接触孔解决方案
机译:基于较低技术节点(7nm)的不同FINFET的静态随机存取存储器设计
机译:倒使用火焰喷涂的钙钛矿光伏基于热解溶液的CuAlO2 / Cu–O孔选择性联系
机译:使用浸没单曝光具有负性调开发的Sub 30nm节点接触孔图案化