Multilayer lithography; planarization; spin on carbon;
机译:在稳态条件下将摩擦摩擦力与摩擦力与浅沟隔离化学机械平坦化的压板电流的相关性
机译:浆料注射系统位置对浅沟槽隔离化学机械平坦化使用二氧化铈浆料的去除率的影响
机译:浅沟槽隔离化学机械平面化:综述
机译:沟槽优先双镶嵌工艺中用于平坦化沟槽的显影剂可溶间隙填充材料的湿式凹陷工艺优化
机译:二氧化硅,钨和浅沟隔离化学机械平面化工艺与垫微纹理,调节圆盘型和年龄,摩擦学,流体动力学和动力学相关的新型研究
机译:用于Cu /ultra-low-к材料化学机械平面化的柔性纳米刷垫
机译:平面化沟槽隔离IN0.52AL0.48AS / IN0.8GA0.2AS通过液相化学增强氧化变质高电子迁移晶体管