Doping; Surface treatment; Substrates; Ion implantation; Implants; Rough surfaces; Surface roughness;
机译:用于未来的极薄绝缘体上硅器件的硅单层的实验研究:由于量子约束效应而对声子/能带结构的调制
机译:硅/碳化硅电力装置中碳化碳掺杂银掺杂硅片烧结烧结接头的热疲劳性能
机译:鞍形表面体积比对硅纳米管的杨氏模量有很强的影响
机译:单层掺杂和高度比率比硅装置中的其他策略
机译:基于碳化硅功率器件的下一代功率因数校正(PFC)和新的控制策略
机译:碳化硅电源装置中的选择性掺杂
机译:掺杂硅的分子单分子层:从掺杂剂量控制到器件应用
机译:碳化硅中掺杂层,触点和相关电子器件的持续发展和表征