机译:使用高能沉积工艺将颗粒沉积到二氧化硅薄膜上时的时空效应
机译:非晶态氢化硅薄膜中衬底偏压引起的本征应力
机译:生长温度和膜厚对脉冲激光沉积在铂硅衬底上生长的Ba_(0.7)Sr_(0.3)TiO_3薄膜的电性能的影响
机译:薄膜沉积,光刻和蚀刻工艺期间对硅衬底翘曲的固有应力效应
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:硅上硫化锌薄膜的脉冲激光沉积:衬底取向和制备对薄膜形态和织构的影响