HighKdielectricmaterials; Implants; Logicgates; MOSFET; Metals; Thresholdvoltage; 32nmPMOS; High-Kdielectrics; MetalGateTransistor; Silvaco; TaguchiMethod;
机译:在200 Mm Geoi晶圆的Si工艺生产线中制造的具有高k和金属栅极的105 Nm栅极长度Pmosfets
机译:在各种PMA条件下提高高k /金属栅极pMOSFET器件的可靠性
机译:1.6 GHz四核应用处理器,采用32 nm高k金属栅极工艺制造,用于智能移动设备
机译:32nm高K /金属栅极PMOS器件的统计过程建模
机译:具有高K电介质和金属栅电极的按比例缩放的NMOS器件的表征和建模
机译:栅堆叠结构和工艺缺陷对32 nm工艺节点PMOSFET中NBTI可靠性的高k介电依赖性的影响
机译:高k /金属栅UTBB-FDSOI器件建模的多尺度策略,重点是反偏压对迁移率的影响