EUV lithography; imaging; alternative mask stacks; mask 3D effects; shadowing; best focus shifts;
机译:相移掩模可补偿高数值孔径极紫外光刻中的掩模3D效果
机译:EUV二元掩模对掩模放大倍率对衍射光影响的严格电磁模拟
机译:线边缘粗糙度传递函数及其在确定EUV抗蚀剂表征中的掩模效应中的应用
机译:替代EUV掩模技术可弥补掩模3D效果
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:3D印刷面膜扩展剂作为分离面膜的补充剂以缓解后耳耳廓不适:对Covid-19大流行的创新3D印刷反应
机译:稳健的源和掩模优化补偿计算光刻中的掩模形貌效应