Fluorine interaction On SiCN and SiOC layers detected by fault detection

机译：通过故障检测在SiCN和SiOC层上发生氟相互作用

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A specific issue based on fluorine interaction on SiCN and SiOC layers is presented in this paper. Beyond this issue, the main subject of this paper is to show how this issue can be detected. A fault detection program monitors the deposition process and allows to control different parameters in real time to prevent such an issue as the fluorine interaction on SiCN and SiOC layers.

机译：本文提出了一个基于SiCN和SiOC层上氟相互作用的特定问题。除了这个问题之外，本文的主要主题是展示如何检测到此问题。故障检测程序监视沉积过程，并允许实时控制不同的参数，以防止诸如SiCN和SiOC层上的氟相互作用之类的问题。

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来源
《Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference》|2014年|161-164|共4页
会议地点
作者
Raguet Jean-Rene; Blaya Laurent; Paire Emmanuel;
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关键词
Fluorine interaction; SiCN; SiOC; fault detection;

机译：氟相互作用; SiCN; SiOC;故障检测;

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