DFT calculations; hydrogen-terminated HF_(aq)-etched (100) Si surface; cluster modelling; X-ray photoelectron spectroscopy (XPS);
机译:在HF水溶液中蚀刻后在原始(100)Si表面观察到的XPS特征分配化学构型
机译:X射线光电子能谱在硅的氢封端(100)表面观察到的谱线的反直觉分配
机译:苯乙炔在氢封端的Si(111)和Si(100)上的键合结构:表面光电子能谱分析和从头算
机译:粘合配置和观察到氢气终止(100)Si表面的XPS特征:我们可以从计算化学中获得什么
机译:具有理想氢终止作用的化学蚀刻新表面清洁技术:silcon(111)和硅(100)表面的表面化学和形态。
机译:氢封端的硅表面的AFM图像中的化学键对比指示
机译:氢封端的Si表面。氢原子在H封端的Si(100)表面的初始氧化过程中的作用。
机译:Ni(100)表面上一氧化碳和氢的共吸附:场地偏好和表面结合的理论研究