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A comparative analysis of synthesizing gallium nitride films: On gallium arsenide and sapphire substrates

机译:合成氮化镓膜的比较分析:在砷化镓和蓝宝石衬底上

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摘要

The characteristics of gallium nitride (GaN) films growth on gallium arsenide (GaAs) and sapphire (Al2O3) by Metal-organic vapor phase epitaxy (MOVPE) system are presented. Comparing the results we can saw the advantages and disadvantages of use one or other substrate in order to find the best experimental conditions for obtain c-GaN films with good properties.
机译:通过金属 - 有机气相外延(MOVPE)系统对砷化镓(GaAs)和蓝宝石(Al 2 O)进行氮化镓(GaN)膜生长的特征提出了。比较结果我们可以看到使用一个或其他基材的优点和缺点,以便找到具有良好性质的C-GaN薄膜的最佳实验条件。

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