Zinc compounds; II-VI semiconductor materials; Substrates; Optical buffering; Optical diffraction; Radio frequency; Sputtering;
机译:通过脉冲直流磁控溅射以不同的溅射功率和衬底温度沉积的Ga掺杂ZnO薄膜及其性能改善潜力
机译:射频磁控溅射在不同衬底温度下沉积的Al掺杂ZnO薄膜的表面和体电子性能之间的关系
机译:衬底温度对反应性射频磁控溅射沉积ZnO薄膜结构和光学性能的影响
机译:射频磁控溅射在不同衬底温度下沉积的纳米结构氧化锌薄膜的光学性质
机译:硼氮化硼薄膜沉积在RF磁控溅射
机译:射频磁控溅射沉积ZnS薄膜的结构和光学性质
机译:基材温度对磁控溅射层逐层掺杂锌氧化物薄膜结构,光学和电性能的影响