Uniform micro feature; Precise micro array; Digital lithography;
机译:具有聚焦机制的数字光刻掩膜方法的发展,用于在生物加工工艺中制造微特征
机译:具有聚焦机制的数字光刻掩膜方法的发展,用于在生物加工工艺中制造微特征
机译:通过掩模拖动X射线光刻和对准X射线光刻技术制造聚合物微针阵列
机译:具有16μm分辨率的精确均匀微观特征阵列的数字光刻掩蔽方法
机译:具有高通量纳米球光刻技术的均匀III-V量子点阵列的制造,用于设备应用。
机译:纳米球光刻技术的制备参数对沉积的金银纳米颗粒阵列性能的影响
机译:尺寸可控的均匀取向SiGe岛/ SiGe / Si异质纳米线阵列的自掩膜制造
机译:通过具有50nm线宽的X射线掩模的三电平电子束光刻制造,以及通过X射线纳米光刻复制