首页> 中国专利> 基于数字掩模光刻技术的微透镜阵列的制作方法

基于数字掩模光刻技术的微透镜阵列的制作方法

摘要

一种基于数字掩模光刻技术的微透镜阵列的制作方法,其方法步骤为:将阵列中的单个透镜的高度等分为n个小微元,利用勾股定理计算出每一等分台阶对应平面圆的直径,将其进行四舍五入的取整处理,使其是DMD单个像素的整数倍。利用成像优化技术设计得到曝光图形,曝光、显影后得到微透镜阵列的浮雕结构。本发明的技术效果是:1、从设计上减小了传统方法给制作器件带来的误差,使微透镜具有更精确的表面轮廓结构,极大改善了微透镜阵列光学使用性能;2、融合数字实时、分形及旋转等成像优化技术,提高了对准精度,并减少了掩膜的数据量,节省大量的存储空间;3、可以保留更多透镜的微细结构,从而在制作方面受透镜表面形状限制更小。

著录项

  • 公开/公告号CN102253436A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-11-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南昌航空大学;

    申请/专利号CN201110203765.1

  • 发明设计人 高益庆;钟希欢;罗宁宁;

    申请日2011-07-20

  • 分类号G02B3/00;G03F7/20;

  • 代理机构南昌洪达专利事务所;

  • 代理人刘凌峰

  • 地址 330000 江西省南昌市红谷滩新区丰和南大道696号

  • 入库时间 2023-12-18 03:43:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-02-12

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B3/00 申请公布日:20111123 申请日:20110720

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2012-01-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B3/00 申请日:20110720

    实质审查的生效

  • 2011-11-23

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号