ITO film; buffer layer; Resistivity;
机译:射频磁控溅射Al_2O_3缓冲层对PET衬底上铟锡氧化物薄膜性能的影响
机译:ZnO缓冲层对射频磁控溅射在PET衬底上掺杂Ga的ZnO薄膜中光电性能的影响
机译:射频磁控溅射技术在具有ZnO缓冲层的Si(111)衬底上SiC膜的结构和光学性质
机译:Al_2O_3缓冲层对溅射覆盖玻璃涂层薄膜的性质的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:Al2O3缓冲层对溅射VO2薄膜性能的影响
机译:3C-SiC缓冲层对RF溅射在Si(111)衬底上形成氧化锌膜的影响