silicon nitride films; low-frequency PECVD; deposition parameters; ellipsometry;
机译:等离子体增强化学气相沉积并在高压下退火的氮化硅薄膜中硅和氢键的演变
机译:通过远程等离子体增强化学气相沉积制备的氮化硅膜中嵌入的硅纳米团簇的可见光致发光
机译:通过等离子体增强化学气相沉积制备的氮化硅膜的水和氧渗透
机译:等离子体增强化学气相沉积法制备的氮氧化硅和氮化硅的电性能
机译:将等离子体增强化学气相沉积的氮化硅薄膜建模为有限的几何形状
机译:CVD石墨烯上等离子增强化学气相沉积法制备的无转移反型石墨烯/硅异质结构
机译:多极等离子体增强化学气相沉积法制备氮化硅膜的氢和氧含量