gold; annealing; RF magnetron sputtering;
机译:低温缓冲,射频功率和退火对射频磁控溅射生长的ZnO / Al_2O_3(0001)薄膜的结构和光学性能的影响
机译:后退火对射频磁控溅射沉积在玻璃基板上的掺镓ZnO薄膜的结构和纳米力学性能的影响
机译:退火温度对高压射频磁控溅射制备的柔性碲化铋薄膜的结构,机械和电性能的影响*
机译:RF磁控溅射对Si上金膜结构性质的退火效应
机译:射频磁控溅射未掺杂镧锰矿薄膜的结构,磁性和表面特性。
机译:通过射频磁控溅射生长的富硅Al2O3膜:结构和光致发光特性与退火处理的关系
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)