DUV; PSM; mask contamination; mask; crystal-growth; cyanuric acid; pellicle; 193nm; scanner; STARlight;
机译:通过聚焦离子束修复多层涂层极紫外光刻掩模版中的振幅缺陷
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机译:锌 - 氧代群光刻胶锌光刻的化学与结构研究
机译:在DUV光刻中标线片缺陷形成的研究
机译:用于光刻的DUV和EUV光掩模中非平面相和多层缺陷的快速仿真方法。
机译:α-Zr中不同原子晶界附近的辐照变形:点缺陷的热力学和动力学研究
机译:纳米压印光刻中聚苯乙烯材料变形行为原子研究